工業冷水機在真空鍍膜工藝中的作用簡述

工業冷水機真空鍍膜作業原理是膜體在高溫下蒸騰落在工件表面結晶。因為空氣對蒸騰的膜體分子會發生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以有必要在高真空下才能使結晶體細密亮光，果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。前期真空鍍膜是依托蒸騰體散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸騰分子在電場的效果下加快炮擊靶材，濺射出很多的靶材原子，呈中性的靶原蒸騰無法加工的膜體種類，如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設備有必要加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會集合在電導有表面積，這樣使電導發熱所以選用中孔管做導體中間加水冷卻。

（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發射時會發生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。一起還有一個重要原因磁控濺射能夠被認為是鍍膜技能中的成果之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。

從更深層次研討電子在非均勻電磁場中的運動規律，探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁束縛的本質原因。磁控濺射能夠被認為是鍍膜技能中的成果之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能安穩。

工業冷水機是一種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。其作業原理是先向機內水箱注入相應量的水，通過制冷系統將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的效果。冷卻水溫可根據要求主動調理，長期使用可節約用水。 

冷水機能操控真空鍍膜機的溫度，以確保鍍件的。假如不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、操控溫度的意圖，因為水和水塔散熱都不可避免地受到氣溫的影響，而且此方法操控是極不安穩的。

工業冷水機具有完全獨立的制冷系統，絕不會受氣溫及環境的影響，水溫在5℃～30℃范圍內調理操控，因而能夠達到高精度、操控溫度的意圖，冷水機設有獨立的水循環系統。